达米恩 威尔金斯

真空沉积和真空镀膜技术

Acktar专有的精密真空沉积(真空镀膜)技术可产生具有卓越特性的独特镀膜表面积,优于其他提供重要商业应用的工艺所能达到的那些。

    发布日期:2021年06月22日
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    Acktar真空镀膜技术的应用导致了包括光学性能,太阳能,铝电解电容器,电子外壳,散热器等在内的广泛应用领域的重大改进。

    以下是Acktar涂料的一些主要特征:

    • 独特的大比表面积和非常小的涂层厚度–仅几微米厚的涂层中基材表面的2000倍
    • 紧密控制表面形态-形状和结构-用于控制物理,光学和辐射特性
    • 保留基材厚度和机械强度–特定的表面涂层技术,而不是蚀刻技术。
    • 真空镀膜温度为-269°C至+ 350°C
    • 对金属和非金属基材具有出色的附着力
    • 优异的机械强度和耐磨性
    • 低放气
    • 生态清洁–不使用腐蚀性化学物质
    • 无机且完全无毒

    高比表面积涂料

     

     

     

    阿克塔尔’专有的精密真空沉积(真空涂层)技术可产生具有极高比表面积的涂层。这些涂料具有独特的特性– 优于其他过程可实现的– 具有重要的商业应用。

    Acktar涂料的应用可在广泛的应用领域进行重大改进。
    以下是Acktar涂料的一些主要特征:

    • 独特的大比表面积与非常小的涂层厚度相结合-在仅几微米厚的涂层中是基材表面的2000倍
    • 涂层的形态,孔隙率和化学组成受到控制,可以调整物理和光学性质。
    • 工作温度:-196°C至+ 450°C
    • 对金属和非金属基材具有出色的附着力
    • 优异的机械强度和耐磨性
    • 完全生态友好
      • 干法和干料
      • 无化学废物,无废水
    • 完全无毒和无机涂层。
    • 导电涂层/非导电涂层–均可用。
    • 提供亲水或疏水表面特性